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        薄膜溅镀制程是一种於真空环境下利用电浆源将金属（包含纯金属与合金）或非金属材料（例如：矽化物、碳化物、氮化物、氧化物）复盖在待镀物上，进而形成均匀薄膜的技术。通常是於电极板两端通施以电压差而生成电场，进而使制程气体（例如氩气）解离形成电浆态并轰击靶材，再以物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的机制使靶材上的材料均匀附着於待镀物而的表面而形成薄膜的工艺。凌嘉科技专精于薄膜溅镀技术，并能以多元且弹性的设备配置方式以适应多元化的加工要求：

• 线性连续式镀膜（Inline） ：
• 不同于枚叶式（Cluster）镀膜设备因以同心放射状布置真空腔体，故当待镀物尺寸较大时（例如为700mm x 700mm的矩形基板时)，相邻腔体之间易生成无效闲置空间，且具有中心处不易维修的潜在风险。而线性连续式镀膜设备则是将腔体连续衔接为线性，进而减少无效闲置空间，并利于操作与维护，故更适用于中大型尺寸基板制程。
• 水平式镀膜：
• 为最常见的镀膜方式，待镀物为水平放置且待镀面通常朝上，此时待镀面的相反侧能配合冷却模块而达到较佳的温控能力。于此配置方式下，靶材通常配置于腔体的上方，亦有利于更换、维修的优点。
• 直立式镀膜：
• 不同于水平式镀膜通常用于单面镀膜，直立式镀膜设备的待镀物为垂直放置，进而能适用于双面镀膜或是巨型待镀物，惟此种配置通常需搭配固定治具以利于搬运及减少待镀物的变形量，若有温度控制的额外须求时，还需配合特制的自动降温机构，结构上较为复杂。
• 卷对卷式镀膜：
• 卷对卷式（Roll-to-roll；R2R）镀膜是指将高分子薄膜（例如PET／PP／PI膜等）、金属箔，或可挠性超薄玻璃等薄质且柔性的基材卷成卷状後，放入薄膜沉积设备并对其进行连续镀膜的设备。

        此外，凌嘉科技於薄膜溅镀领域还拥有：电浆场仿真、表面预处理功能模块、电浆蚀刻功能模块、真空烤箱功能模块、回流功能模块、旋转靶模块、低温镀膜模块、防翘曲模块、设备前端模块（Equipment Front End Module； EFEM ）、SECS/GEM模块…等关键零组件能力及自动化整合能力。

        对此，凌嘉科技有自主的知识产权及丰富的制程开发经验，并拥有自主的配方知识库能适当的依材料特性选择合适的制程配置，亦能协同客户进行制程开发及实验验证，除了可以提供研发阶段於不同制程配方下的打样服务之外，亦拥有合格且高精密度的实验室能进行样品的测试。